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我院董慧龙博士在国际著名期刊《Nanoscale》发表论文

发布:胡秀丽 时间:2020-04-27 浏览:

2019年下半年,应美国洛斯阿拉莫斯国家实验室Sergei Tretiak教授约稿,我校材料工程学院功能材料专业青年教师董慧龙博士与电子科技大学国家青年特聘专家周柳江教授一起以共同第一作者和共同通讯作者身份执笔在《Nanoscale(中科院SCI分区一区Top期刊IF=6.970)期刊上发表了题为“Recent advances of novel ultrathin two-dimensional silicon carbides from a theoretical perspective”(新型超薄二维碳化硅在理论方面的最新进展)的综述性论文。

由于其多样化的本征电子能带特性,二维碳化硅(2D Si-C)材料已经组成了一个在光电/能源领域有着巨大应用价值的家族。材料工程学院董慧龙老师在二维碳化硅材料的结构、性质和潜在应用方面有着多年的研究经验。该综述主要以两位执笔作者往年间单独/合作发表的有关二维碳化硅材料的理论计算研究为主,纵览了用于设计2D Si-C晶体的高通量方法,类石墨结构的硅化石墨烯及非硅化石墨烯的形貌、物理化学性质和基于理论模拟预测的潜在应用,以及2D Si-C材料的实验研究进展和所面临的挑战等。 

  文章链接:https://pubs.rsc.org/is/content/articlelanding/2020/nr/c9nr08755a#!divAbstract


 

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